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福州半导体前道设备,晋宇达,半导体前道设备
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公司名称: 张家港晋宇达电子科技有限公司
公司地址: 张家港经济技术开发区福新路2号
主营业务: 光刻机,尼康步进光刻机,半导体前道设...
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传统光刻机的演变和所面临的挑战

? ? ??光刻机是诸多现代技术高度集成的产物, 这些技术是:物理学,光学,化学,福州半导体前道设备,材料科学,精密机械,精密控制,半导体前道设备,工程学等等。在过往的20几年中,深圳半导体前道设备,光刻机作为半导体制造业的重要设备,经历了很多次革命。这些变革是伴随着微处理器和dram特征尺寸的不断缩减发生的演变。 由于光刻的分辨率与曝光波长、物镜光阑孔径的关系为:分辨率=k1λ/na所以光刻机的革命主要发生在这样几个方面[2-8]:大na非球面镜光学系统,短波长光源,分辨率增强技术(降低k1因子),同步扫描工件台等。


光刻机?

光刻机/紫外曝光机(mask aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 mask alignment system.高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰asml(镜头来自德国),日本nikon(intel曾经购买过nikon的高端光刻机)和日本canon三大品牌为主。


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